ASML總監：干式光刻機非常重要，中國光刻機的現狀讓我們感到不安

導讀：光刻機市場大洗牌，ASML總監：干式光刻機非常重要，中國的現狀讓我們感到不安

假如告訴你，在東莞某工廠的一隅，有一臺已運轉二十余載的老舊光刻機，直至今日依舊為全球的汽車、醫療設備等領域源源不斷地供應產品，你會相信嗎？ASML產品營銷總監Jeroen de Groot近期在官方采訪中道出了一則實情——運用干式DUV制造的芯片，盡管性能難與最新款比肩，然而市場并未打算將它們淘汰。恰恰相反，成熟制程的需求日益旺盛，那些二十年前制造出來的老設備，反倒愈發炙手可熱。

他還坦誠表示，中國在近年間于光刻機領域取得的迅猛進步，令ASML“既感不安，又覺好奇”。

芯片按類型劃分，可分為模擬、數字、混合三大類別；按功能劃分，則涵蓋邏輯、存儲、專用、系統集成四種類型。而這一切的開端，需回溯至1958年——在那一年，杰克·基爾比與羅伯特·諾伊斯幾乎在同一時刻，憑借不同的方法，各自成功研制出第一代集成電路。幾乎與此同時，美國德州儀器的工程師杰伊·萊思羅普，借助一些特殊材料與一臺倒置顯微鏡，搗鼓出了光刻技術最初的雛形。

接下來的十年，是奠定基礎的十年。從1960年至1970年，國際芯片廠商致力于將制造芯片所需的設備與材料逐一打磨、優化，為大規模商業化進程做好準備。

再往后的十年，產業鏈的復雜程度愈發驚人，全球化分工體系也隨之應運而生。美國、日本、荷蘭等國家開始全力以赴，研發更為高端的制造設備。荷蘭的飛利浦公司拔得頭籌，率先推出了PAS 2000。為推動這臺設備真正走向市場，荷蘭經濟事務所、飛利浦和ASM三家坐下來進行談判，合資成立了一家新公司——這便是后來聞名遐邇的ASML，其專門負責光刻機的制造與銷售。

到了1991年，ASML推出了效率更高的PAS 5500，開始正面挑戰日本的尼康和佳能。2000年前后，整個芯片行業從200mm晶圓升級至300mm晶圓，ASML又順勢推出TWINSCAN XT系列，該系列精度更高，還同時支持氟化氪（KrF）和氟化氬（ArF）兩套系統，先進芯片自此邁向了一個新的臺階。

有意思的是，新設備嶄露頭角，舊設備卻并未退出舞臺。那些干式光刻機——價格低廉、穩定性佳、維護便捷——反而成為國際芯片產業中難以割舍的一部分。ASML自身也始終在維護這些老設備，甚至專門推出官方翻新版本進行售賣。ASML官方的一份報告直言不諱：過去30年間他們售出的所有光刻機，有95%仍在正常運行。

無論是老舊的干式DUV，還是新一代的浸潤式和EUV，每一種都有其獨特的價值與意義。老設備在輕量化方面具備優勢，許多老廠房的承重與高度無法承受新機器，只能依靠它們來維持生產。這些機器制造出的成熟芯片，被廣泛應用于醫療 。汽車、電信、工業控制。

美國半導體協會做了一份產業預測，說中國大陸生產的成熟芯片，已經占到全球市場的33%啦。而且啊，大家覺得在接下來的幾年里，這個優勢還會越來越大。

中美之間的產業博弈已然進入白熱化階段。在美國方面，一方面投入巨額資金進行補貼，另一方面揮舞關稅大棒，試圖將全球頂尖的芯片制造技術吸引至其本土，以鞏固自身在該領域的優勢地位。而中國則通過實施一系列完整的產業扶持政策，堅定地走上去美化、純國產化的發展道路。

美國智庫在跟蹤研究過程中，察覺到一個頗具深意的現象：從2023年至今近三年時間里，中國先進芯片的制造工藝基本停留在7納米水平，尚未取得實質性突破。這意味著，前端的光刻機依舊是制約中國先進芯片發展的關鍵瓶頸。

然而，在另一個領域，中國企業已成功實現干式光刻機的國產化。這批國產設備配備了193納米的深紫外光源，借助多重圖案化技術，能夠制造出28納米及以上制程的芯片，完全可以滿足成熟市場的需求。

復旦大學的沈逸教授在一次線上對話中精準地指出：國產干式光刻機與ASML的最新款產品相比，看似存在巨大差距，但它是在去美化供應鏈的基礎上研發制造的，美國的制裁封鎖措施對其毫無作用。他還進一步表示，干式光刻機僅僅是我們“允許公開”的成果，那些尚未在機構實驗室之外亮相的技術和產品，才是真正的核心競爭力和底牌。當中國能夠自主制造出更先進的設備時，外國企業若想再進入中國市場銷售相關產品，恐怕只能聽到這樣的回應：“不好意思，我們不需要了?！?/p>

如今，芯片產業的競爭早已不再局限于光刻機納米數的比拼。近年來，美國出臺了一系列政策，從《芯片法案》到“十月新規”，再到不斷擴充的實體清單，每一項舉措都旨在將中國限制在14納米、7納米制程之外。但現實情況是，華為的Mate 70系列早在2024年底就已采用國產芯片制造工藝；到2026年上半年，長江存儲、中芯國際等企業的生產線不斷拓展，在成熟芯片這一所謂的“低端市場”，中國構建起了堅實的產業護城河。

我們不能輕視“成熟”芯片的價值。在日常生活中，汽車鑰匙、家用空調，以及醫療領域的CT機等設備，其中絕大多數芯片采用的是28納米、40納米等制程，這些看似“不夠酷炫”的芯片卻發揮著至關重要的作用。在全球每年高達上萬億美元的芯片市場中，成熟制程芯片占據了七成以上的份額。ASML也承認，中國企業已成為其在國際市場上“最大的潛在競爭對手”，這一評價既是對中國企業發展的警覺，也是一種認可。

至于2027年沖擊1.3納米制程的目標，其意義或許并不在于數字本身，而在于向外界宣告：面對外部的技術封鎖和限制，中國將堅定不移地探索出一條屬于自己的發展道路。近年來，松山湖地區在芯片產業的各個環節，從設計到設備、從材料到封裝，都進行了系統且深入的布局，雖然采取的是穩扎穩打的策略，但每一步都為產業的長遠發展奠定了堅實基礎。正如俗語所說，彎道超車靠的是把握彎道機遇，直道競爭拼的是持久耐力。