河北
前沿導讀
臺積電副運營長張曉強表示，為節省開支，臺積電目前沒有采用第二代高數值孔徑EUV光刻機的計劃。臺積電的研發部門正在利用現有的第一代EUV設備制造先進芯片，并且還因此制定了未來技術方向，整體進度良好。第二代EUV的價格非常昂貴，臺積電因此正在積極探索不使用該設備繼續提升芯片性能的方法。
價格因素
據報道顯示，ASML制造的第二代高數值孔徑EUV光刻機的售價在3.5億至4億美元左右，相當于兩臺第一代EUV的價格。
第一代EUV光刻機的數值孔徑（NA）為0.33，其單次曝光分辨率約為13.5nm，可以高效率制造7nm及以下工藝的芯片。并且當下絕大部分的先進邏輯芯片和ai算力芯片，都是基于該設備制造完成。
為了繼續制造更微小的晶體管，芯片廠商還會采用技術復雜的“多重圖案化”技術。該技術將會對同一層電路進行多次的曝光、刻蝕及沉積工藝，這不僅大幅增加了工藝步驟、時間和成本，同時也會對制造效率產生影響。
而ASML制造的第二代EUV，將數值孔徑提升至0.55，其單次曝光分辨率可達到8nm級別。該設備可以制造18A（1.8nm）、14A（1.4nm）以及更先進的制程工藝芯片，可以大幅度減少多重圖案化帶來的復雜步驟和較低的制造效率。
第二代EUV的優點明顯，缺點也很明顯，那就是造價高昂，單臺售價相比第一代設備翻了一倍多。
如果將第二代EUV的價格以更加實體化的方式進行表現，那么基本相當于6架波音737或者4架殲-35的價格。較高的售價就注定這臺設備只是少數企業所能采購的產品，目前有能力承擔的企業就是臺積電、三星、英特爾。
此前ASML的大客戶是中國大陸地區，但是受出口管制的影響，大陸地區無法獲得ASML先進設備，這讓ASML損失了一個潛力巨大的用戶市場。
然后就是中國臺灣地區的臺積電，臺積電一直都是先進制程的領軍企業，也是ASML浸潤式和EUV的核心客戶。
但是ASML對第二代EUV的態度很明顯，價格太高暫不采購，而且現有的第一代EUV可以通過多重圖案化制造更先進的芯片，臺積電的商業利潤也可以在資金上撐得住這種技術，沒必要多花錢買更貴的產品。
三星則表示有購買傾向，并且已經在2025年訂購了一臺第二代EUV用于邏輯芯片和存儲芯片的制造。
最有購買欲望的企業，就是英特爾。本身英特爾的制造技術在國際層面已經落后了，而且還被臺積電搶走了大量客戶，急需要頂尖的設備來彌補這個技術差距。英特爾在政府的扶持下采購了多臺第二代EUV，并且已經率先實現了18A芯片的量產。
用戶市場
如今的全球芯片市場，90%的芯片并不需要EUV光刻機。
28nm及以上工藝的平面晶體管結構的芯片，用干式或者浸潤式DUV光刻機可以制造。而14nm至7nm的Fin FET立體晶體管結構的芯片也可以通過浸潤式光刻機完成制造，只有極少部分的先進邏輯芯片、存儲芯片和算力芯片需要EUV的技術支持。
而這些先進芯片的最大制造商就是臺積電，其次是三星和英特爾占小部分市場。
臺積電對于第二代EUV沒有采購欲望，三星和英特爾的客戶群體有限，并且三星此前用EUV制造的5nm和4nm芯片在消費市場上差評如潮，導致很少有客戶愿意考慮三星工藝。而英特爾拿第二代EUV主要制造先進工藝的CPU，產品覆蓋面很窄。
唯一一個有巨大發展潛力的中大陸國市場還被美國實施出口管制，ASML在第二代EUV的銷售當中并沒有重現DUV和第一代EUV的輝煌戰績。
ASML是設備制造商，其核心業務就是制造并且銷售、維護光刻機。如果其制造的新設備并沒有獲得客戶的青睞，那么ASML開發新設備所投入的資金就相當于打水漂了。
ASML CEO克里斯托弗·富凱在接受國際媒體采訪時指出，應該適度向中國企業輸出西方的技術產品，以保持中國企業對于西方技術的依賴，防止其自主研發形成競爭力。過于嚴格的制裁，將會迫使中國企業走上自立自強的道路。假以時日，中國企業還有可能將自主制造的設備銷往海外市場，與國際企業競爭。
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