上海
據俄羅斯科技媒體 CNews 報道，俄羅斯已建成一套電子束光刻設備，可用于制作光掩模，也可在不使用掩模的情況下在襯底上形成圖形。該設備設計規范為150納米，由綠城納米技術中心研制，目前樣機正在試驗中。
（AI 示意圖）
光刻設備
據CNews了解，股份公司“綠城納米技術中心”（ЗНТЦ）研制出設計規范為150納米的電子束光刻設備。樣機已經制成，消息來自其運輸招標——該招標于2026年6月發布。
該設備用于無掩模光刻——制作光掩模，以及在硅及其他襯底上、不使用掩模的情況下形成圖形。
據文件顯示，綠城納米技術中心正在為交付“設計規范150納米的電子束光刻設備樣機”尋找承運方，該項工作屬試驗設計工作（ОКР），代號為“Прогресс ЭЛЛ 150”（Progress ELL 150）。發運地為綠城（Зеленоград），目的地未公開。
但綠城納米技術中心總經理阿納托利·科瓦廖夫（Анатолий Ковалев）向CNews表示，該設備將運往距綠城約2000公里處。
科瓦廖夫向CNews介紹說：“目前兩臺樣機正在進行綜合試驗，試驗將持續約四個月。之后將開始圖像精度及其他工藝參數方面的試驗。”
這是什么設備
這里所說的，是電子束光刻設備的研制，以及在光掩模上形成集成電路拓撲單元、設計規范為150納米的基礎工藝過程。
該設備的關鍵特點是無掩模光刻。與通過光掩模轉移圖形的光學光刻不同，電子束光刻借助聚焦電子束直接在襯底上形成圖像。這樣既可以制作光掩模，也可以在硅及其他襯底上不使用掩模直接成圖，對試產批次、原型樣機和專用芯片的生產至關重要。
該研制在國家計劃《俄羅斯聯邦科學技術發展》框架下推進。
優點與缺點
一家微電子企業負責人向CNews介紹說：“在無掩模模式（直接寫入）下，電子束就像極細的筆，直接在涂有光刻膠的晶圓上繪制芯片圖形。對科研開發和原型驗證來說，靈活、快捷，可以快速改圖，不必再做昂貴的光掩模。但對量產來說太慢了。”
據他介紹，這類設備適合航天或國防工業等專用電子元器件（ЭКБ）的小批量生產——每個訂單都做昂貴掩模在經濟上不劃算。
光掩模是電子束光刻過程的最終產品。電子束光刻設備把未來芯片的基準圖形畫在掩模坯件上。這張光掩模（帶不透明薄膜圖形的玻璃板）隨后在光學光刻機中充當“模板”，把圖像快速轉移到成千上萬片硅晶圓上，他繼續說。
該專家認為，關鍵問題包括：缺少能夠掌握65納米以下生產的本國工程隊伍；缺少90納米以下工藝所需的光刻膠；缺少元器件基礎以及關鍵解決方案，例如防止“鄰近效應”所需的超精密激光干涉儀和加熱控制系統；還缺少像中國由國家組織科研院所對世界領先設備做公關的國家戰略。
獨立專家、Telegram頻道RUSmicro作者阿列克謝·博伊科（Алексей Бойко）向CNews表示：“自有電子束光刻機對俄羅斯很有現實意義，因為我國市場芯片訂單量通常不大。也就是說，這類設備比較適合小批量生產——可以直接‘畫’芯片，不必為不菲的掩模花錢。這些設備對原型驗證和研發也很方便，能加快開發與研究進度。”
博伊科還指出：“此外，這類光刻機也可用于為成熟光學光刻工藝制作掩模。說到難點，就要提到如何在整片晶圓上保證圖形均勻性——這需要仔細的計量檢測和高質量的束流控制。還需要電子束敏感的抗蝕劑，其對質量要求也不低。”
綠城納米技術中心以何著稱
綠城納米技術中心是俄羅斯微電子及其生產設備的研發與制造商。
CNews此前報道，綠城納米技術中心還研制過分辨率350納米的光學光刻機，并已移交給“行業解決方案”公司（Отраслевые решения，隸屬Element集團）。在2025年9月的“微電子2025”論壇上，綠城納米技術中心總經理阿納托利·科瓦廖夫表示，已形成扎實基礎，可以著手研制完全國產化的90納米設備。目前則在推進130納米設備的工作。
文章來源：EETOP
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