半導體出口管制新規落地，臺積電南京工廠換發年度許可證

近日，美國商務部已向臺積電位于中國南京的工廠頒發了 2026 年度出口許可證，允許在“經驗證最終用戶”（VEU）授權到期后繼續進口受管制的美國芯片制造設備，確保工廠運營和產品交付不中斷。

與此同時，三星電子和 SK 海力士也于 2025 年底獲得類似年度許可，確保這些外資企業在中國的運營不受重大中斷。

臺積電作為全球半導體產業的領軍者，其南京工廠主要生產 16nm 及更成熟制程的芯片，這些芯片廣泛應用于汽車電子、消費產品等領域。根據臺積電 2024 年年報，該工廠貢獻了公司約 2.4% 的總營收，雖占比不高，但對維持供應鏈連續性至關重要。此次許可證的頒發，避免了潛在的生產中斷風險，確保工廠運營和產品交付順暢。

臺積電在聲明中表示：“美國商務部已向臺積電南京頒發年度出口許可證，允許美國出口管制產品無需單獨向供應商申請許可證即可供應給臺積電南京。”聲明還補充說，該許可證“確保了晶圓廠的正常運營和產品交付”。

要理解這一事件，必須追溯“經驗證最終用戶”（VEU）制度的起源和作用。VEU 程序由美國商務部工業與安全局（BIS）于 2007 年推出，作為出口管制體系的一部分，旨在簡化對“可靠”最終用戶的出口流程。該制度允許經認證的中國實體或其他國家用戶無需逐筆申請許可證，即可進口美國受控物品，特別是半導體制造設備和技術。這是一種“信任基礎”的豁免機制，針對那些被 BIS 認定為低風險、合規記錄良好的企業。

在中美科技摩擦加劇的環境下，VEU 制度于 2013 年起擴展到外資半導體企業在中國的工廠。例如，三星中國半導體有限公司、SK 海力士半導體（中國）有限公司隨后跟進。臺積電的南京工廠也在拜登政府時期獲得類似授權。這些豁免最初是無限期的，幫助外資企業繞過繁瑣的個別許可流程，確保設備進口高效，從而維持全球供應鏈的穩定。

然而，隨著美國對華出口管制的加強，VEU 制度面臨調整。拜登政府時期，該程序被視為“小型院子、高圍欄”策略的一部分，即在有限領域內允許豁免，以避免經濟脫鉤帶來的全球沖擊。但特朗普第二任期上臺后，政策轉向更嚴格的審查。2025 年上半年，BIS 開始評估 VEU 的有效性，擔心外資工廠可能間接助力中國本土半導體產業的自給自足。最終，該程序于 2025 年 12 月 31 日到期，并被年度審批制度取代，以增加監管靈活性。

2025 年是 VEU 制度轉折的關鍵一年。特朗普政府在 8 月和 9 月先后撤銷多家企業的 VEU 授權，標志著對華管制的進一步收緊。8 月 29 日，BIS 發布最終規則，移除三星中國半導體有限公司、SK 海力士半導體（中國）有限公司以及英特爾半導體（大連）有限公司的 VEU 地位。這些工廠分別位于西安、無錫和大連，主要生產 DRAM、NAND 閃存等內存芯片，對全球存儲市場至關重要。

撤銷的原因在于美國對技術泄露的擔憂。盡管這些工廠由外資控制，但位于中國境內。BIS 強調，此舉旨在“關閉出口管制漏洞”，防止先進設備流入高風險領域。撤銷后，這些公司需為每批設備進口申請個別許可證，增加了行政負擔和不確定性，可能導致短期供應鏈波動。

然而，美國并未完全切斷支持。BIS 同時表示，將“批準前 VEU 參與者的出口許可證申請，以允許現有工廠運營”。這一承諾很快兌現：2025 年 12 月 30 日，三星和 SK 海力士獲得 2026 年度許可證，允許其中國工廠繼續進口芯片制造設備，而無需供應商逐一申請。許可證僅限于維持現有產能，不允許擴張或升級到先進制程。

緊隨三星和 SK 海力士之后，臺積電于 2025 年 9 月2日成為 VEU 撤銷的下一個目標。BIS 移除其南京工廠的豁免地位，要求轉向個別許可。

這一撤銷引發市場短暫波動，但臺積電迅速適應。2026 年 1 月 1 日，公司宣布獲得美國商務部頒發的年度出口許可證，涵蓋全年設備進口。許可證確保南京工廠運營連續性，避免了 VEU 到期后的潛在中斷。臺積電強調，此許可不適用于上海工廠，僅限于南京，且嚴格遵守美國管制規則。

行業對這些變化的反應混合著寬慰與擔憂。三星、SK 海力士和臺積電的年度許可提供短期穩定，但年度續簽引入不確定性。分析師指出，這將推動企業加速多元化：臺積電加大在美國亞利桑那的投資（高達 650 億美元），三星和 SK 海力士也擴展越南和美國產能。

總之，美國對臺積電、三星和 SK 海力士的年度許可，是 VEU 時代終結后的新常態。它平衡了安全與經濟，但科技冷戰遠未結束。半導體產業將繼續在博弈中演進，考驗全球合作的極限。

1.https://www.reuters.com/world/asia-pacific/us-grants-annual-approval-tsmc-chipmaking-tool-exports-china-2025-12-31/