添加一點“鹽”,全真空蒸鍍鈣鈦礦電池效率飆升到25.53%
鈣鈦礦太陽能電池(PSCs)作為下一代光伏技術的有力競爭者,正穩步邁向商業化。在眾多制備工藝中,真空蒸鍍因其精確的過程控制、優異的薄膜均勻性、無需有毒溶劑以及設備重復性高等優勢,被視為規模化生產的理想路徑。然而,全真空蒸鍍PSCs的性能長期落后于溶液法器件,核心瓶頸在于固態反應中前驅體擴散困難、相變過程受限及結晶調控能力不足。溶液法中,溶劑-溶質配位形成的中間相(如DMSO-PbI?、FA·NMP-PbI?)能顯著降低δ-α相變能壘,但熱蒸發固態前驅體缺乏此類中間相,反應需依賴熱能驅動,隨機分子擴散常導致反應不完全、不均勻,使得前驅體相變困難、結晶過程難以控制。
針對上述挑戰,南京工業大學黃維院士、陳永華教授、夏英東教授和郭慶勛副教授?團隊,通過層層熱蒸發鈣鈦礦前驅體的固態反應路徑,創新性地引入甲酸銨乙酸酯(FAAc)調控層。FAAc可直接與PbI?反應生成FAPbI?種子層,顯著降低前驅體向δ相固態轉化及其后續向α相鈣鈦礦轉變的能壘;同時,過量乙酸根(Ac?)可鈍化晶界缺陷,抑制非輻射復合。此外,FAAc與PbI?反應生成的PbAc?在高溫下易揮發,不會在薄膜中大量殘留。由此制備的全真空蒸鍍PSCs實現了25.53%的光電轉換效率(PCE)和18.38%的電致發光外量子效率(EQE)。無溶劑工藝還賦予器件優異穩定性:在ISOS-L-1協議下連續運行1000小時后,器件仍保持初始PCE的95%以上;在55℃/55%相對濕度的濕熱測試中,3000小時后效率損失低于2%。相關論文以“Controlled solid-state crystallization with formamidinium acetate for fully vacuum-deposited perovskite solar cells”為題,發表在Nature Energy上。
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固態反應調控
研究團隊采用層層熱蒸發工藝制備含FAAc的鈣鈦礦前驅體薄膜(圖1a)。FAAc是一種低熔點熔鹽(約158℃),可通過熱蒸發制備薄膜(圖1b)。前驅體薄膜在環境氣氛下于175℃熱臺退火,顏色由黃轉黑,標志著鈣鈦礦相的形成。值得注意的是,FAAc處理薄膜的相變時間僅約5秒,遠快于對照組的15秒。X射線衍射(XRD)跟蹤不同退火溫度下的組分變化顯示(圖1d),FAAc顯著降低了PbI?峰的消失溫度和δ相形成起始溫度,加速了固態擴散反應;同時,δ-α相完全轉變溫度從130℃降至110℃。為進一步驗證,團隊制備了與蒸鍍薄膜相同組分比例的粉末混合物(圖1e、f)。含FAAc的粉末在研磨后即出現明顯δ-FAPbI?峰,加熱后完全轉化為α-FAPbI?,晶粒尺寸和均勻性明顯改善。密度泛函理論(DFT)計算(圖1g)證實FAAc可降低固態前驅體向δ相及δ相向α相轉變的反應能壘。溫度依賴拉曼光譜(圖1h)顯示FAAc與PbI?在室溫即可自發反應生成δ-FAPbI?,加熱至120℃以上促進α相形成。XRD進一步確認了反應路徑(圖1i):2FAAc(s)+3PbI?(s)→2FAPbI?(s)+PbAc?(s)。FAAc與PbI?間的強配位和氫鍵作用顯著降低了反應能壘,FAAc/PbI?界面反應生成的FAPbI?作為成核位點,促進了高質量晶體生長(圖1j)。
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圖1 | 層-by-層蒸鍍鈣鈦礦薄膜的固態反應。 a,基于FAAc的層-by-層沉積策略熱蒸發鈣鈦礦薄膜的示意圖。 b,FAAc的化學結構和靜電勢(ESP)圖。 c,退火過程中鈣鈦礦薄膜演變的照片(退火溫度175℃)。 d,不同反應溫度下α-FAPbI?、δ-FAPbI?和PbI? XRD峰面積的積分。藍色、黃色和黑色箭頭分別指向δ-FAPbI?、PbI?和α-FAPbI?。 e,PbI?/FAI/CsI/FAAc混合粉末在機械研磨和175℃退火后的數碼照片。 f,對應的XRD圖譜。 g,有/無FAAc時FAI+PbI?→FAPbI?反應的能量隨反應坐標變化示意圖。 h,PbI?和FAAc混合粉末的溫度依賴拉曼光譜。 i,FAAc、PbI?及其混合粉末退火后的XRD圖譜。黃色、黑色和淺藍色箭頭分別指向PbI?、α-FAPbI?和PbAc?。 j,固態反應和結晶過程中FAAc促進α-FAPbI?形成的示意圖。橙色箭頭代表過量FAAc的揮發。
原位結晶過程與薄膜質量
通過原位掠入射廣角X射線散射(GIWAXS,圖2a)跟蹤退火初期的相演變,對照組在初始階段幾乎無鈣鈦礦信號,持續存在PbI?衍射(q=0.92 ??1);而FAAc樣品在175℃退火初始階段即瞬間形成三維中間相(q≈10.5 nm?1),固態前驅體完全轉化為α相的時間從19.2秒縮短至16.8秒。原位光致發光(PL)光譜(圖2b)顯示,FAAc樣品初始即出現810 nm附近的強PL峰,歸因于FAAc與PbI?直接反應在表面生成FAPbI?種子層,該峰位相對于理想α-FAPbI?(約840 nm)發生藍移,可能源于Cs?和Cl?的摻入及量子限域效應;隨后大量三維中間相形成,PL峰藍移至約785 nm。退火過程中FAAc可向下擴散,與PbI?混合后極大加速了與FAI的互擴散,有效促進固態反應并改善結晶性。掃描電鏡(SEM,圖2c)顯示FAAc處理薄膜晶粒明顯增大,埋底界面針孔顯著減少,而對照組晶粒細小且殘留明顯PbI?。掠入射XRD(GIXRD,圖2d)顯示對照組隨入射角增大衍射峰向高角度偏移,存在內部應力;FAAc薄膜峰位幾乎不變,結構均勻性改善。飛行時間二次離子質譜(ToF-SIMS,圖2e)表明對照組Pb和Cs信號強度波動明顯,元素分布不均;目標樣品元素信號平坦穩定,組分均勻性優異。
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圖2 | 鈣鈦礦薄膜的原位結晶過程與薄膜質量。 a,鈣鈦礦前驅體薄膜在熱退火(175℃)過程中的原位GIWAXS圖譜。箭頭方向代表峰位隨時間的變化。 b,原位PL光譜。 c,鈣鈦礦薄膜的頂面和底面的俯視SEM圖像。比例尺:1 μm。 d,GIXRD圖譜。 e,ToF-SIMS深度剖面圖。
體相鈍化與缺陷抑制
理論計算(圖3a)顯示Ac?可強吸附于暴露的Pb2?位點,將Pb-I鍵長從3.079 ?拉長至4.13 ?,有效降低帶隙內陷阱態密度(圖3b),抑制非輻射復合。X射線光電子能譜(XPS,圖3c)中FAAc處理樣品Pb 4f和I 3d核心能級向低結合能偏移,證實強化學相互作用;傅里葉變換紅外光譜中O-H鍵紅移進一步證實Ac?與鈣鈦礦晶格間的強配位。陷阱填充電壓(VTFL)顯示陷阱密度從7.7×101?降至6.0×101? cm?3。溫度依賴阻抗譜提取缺陷激活能(圖3d),對照組為11.66 meV,FAAc器件為7.81 meV,陷阱能級更淺。PL 譜圖(圖3e)顯示FAAc薄膜在SnO?襯底上PL強度降低,表明電荷提取更高效。溫度依賴PL(圖3f)擬合激子結合能,對照組105.37 meV,FAAc薄膜86.28 meV,較低激子結合能有利于激子解離和電荷提取。光致發光量子產率(PLQY)計算的準費米能級分裂(QFLS,圖3g)顯示FAAc處理樣品具有更高QFLS值,體相非輻射復合減少;電子傳輸層和空穴傳輸層界面接觸損失分別從32 meV和73 meV降至15 meV和6 meV。
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圖3 | 鈣鈦礦薄膜的缺陷鈍化。 a,對照組和Ac鈍化鈣鈦礦表面的3×3×1切片優化結構;位于表面或界面的FA?離子因不對稱化學環境或缺陷而發生旋轉運動。原子顏色標注:灰,Pb;紅,O;棕,C;紫,I;藍,N;粉,H。 b,對照組和Ac修飾鈣鈦礦(含碘空位)的態密度(DOS)分布。 c,鈣鈦礦薄膜的XPS曲線,峰位經高斯函數擬合。 d,不同溫度下從導數比容譜提取的特征頻率的Arrhenius圖。實線代表Arrhenius函數擬合結果。 e,鈣鈦礦薄膜的PL mapping,側面為強度分布圖。比例尺:10 μm。 f,80-300 K范圍內溫度依賴PL強度的偽色圖。 g,半器件中QFLS統計及器件Voc統計。左兩列:有無電荷傳輸層(CTLs)時鈣鈦礦薄膜的QFLS統計;右兩列:器件Voc統計(n=35個樣品)。每個箱線圖中中心線代表中位值。
器件結構與性能
團隊開發了磁控濺射SnO?(M-SnO?)作為電子傳輸層、熱蒸發Spiro-TTB:MoO?作為空穴傳輸層。單載流子器件(圖4a)顯示M-SnO?具有更高電子遷移率,且其導帶最小值(-4.07 eV)與鈣鈦礦層(-3.98 eV)更匹配(圖4b),降低界面能壘。Spiro-TTB:MoO?空穴遷移率與Spiro-OMeTAD:Li相當,價帶最大值(-5.27 eV)更接近鈣鈦礦(-5.52 eV),且厚度僅30 nm,完美覆蓋并保持鈣鈦礦形貌,同時具有優異熱穩定性(分解溫度>530℃)和疏水性。優化器件結構為FTO/M-SnO?(20 nm)/鈣鈦礦活性層(700 nm)/Spiro-TTB:MoO?(25 nm)/MoO?(5 nm)/Ag(100 nm)(圖4c)。冠軍FAAc-PSC的J-V曲線(圖4d)顯示開路電壓從1.12 V大幅提升至1.18 V,填充因子提升至82.26%,實現25.53%的PCE,超越此前所有全真空蒸鍍PSCs報道效率(圖4e)。第三方認證PCE達24.93%(Jsc 26.08 mA·cm?2,Voc 1.16 V,FF 82.65%)。1.00 cm2器件實現24.00%效率。該器件同時表現出穩定明亮的近紅外電致發光(EL),發射峰813 nm(圖4f),啟亮電壓約1.3 V(圖4g),EL EQE達18.38%,遠優于對照組的8.26%和43.71 W sr?1 m?2的輻亮度。圖4h總結了近年熱蒸發PeLEDs性能,該策略實現顯著提升。
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圖4 | 器件結構與光電性能。 a,單載流子器件的電流密度-電壓(J-V)曲線。曲線僅為視覺引導。 b,PSCs的能級排布。 c,器件結構的示意圖。 d,全真空蒸鍍冠軍PSCs的J-V曲線。 e,歷年來全真空蒸鍍PSCs的PCE演變(詳細光伏參數見補充表1-3)。 f,PSC作為LED工作時的EL EQE-電流密度曲線,插圖為不同電壓下的EL光譜及其發光圖像。 g,PSC作為LED時的電流密度-電壓和輻亮度-電壓特性。 h,近年報道的熱蒸發PeLEDs的EQE總結(詳細光伏參數見補充表4-7)。 i,封裝PSCs在濕熱存儲條件(55℃/55% RH)下的長期穩定性測試。對照組和目標組初始PCE分別為22.29%和24.83%。 j,未封裝PSCs在N?手套箱中連續1-sun光照下的MPP跟蹤(25℃)。光源為白光LED,強度校準至1-sun光照(補充圖51)。對照組和目標組初始PCE分別為22.35%和25.14%。
穩定性與展望
FAAc鈣鈦礦薄膜在連續激光(445 nm)照射下PL強度保持80%達800分鐘。封裝器件在55℃/55% RH濕熱測試(ISOS-D-3,圖4i)中3000小時后PCE幾乎不變,對照組僅保持初始值的60%。未封裝器件在氮氣手套箱中連續最大功率點跟蹤(ISOS-L-1,圖4j)1000小時后FAAc器件保持初始PCE的95.7%,對照組約640小時后僅剩50%。全真空蒸鍍工藝結合Spiro-TTB:MoO?的本征穩定性,使器件穩定性接近溶液法器件最高水平。該工作不僅證實了FAAc調控固態結晶的有效性,更展示了全真空蒸鍍制備高效穩定PSCs的規模化路線,為真空工藝鈣鈦礦光電器件的商業化應用鋪平了道路。
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