湖南
目前在芯片領域，EUV光刻機公認是皇冠中的皇冠，因為全球只有ASML一家能夠制造，且它是制造5nm及以下芯片必不可少的設備。
一臺入門級的EUV光刻機，都是1億多美元，而最新的High NA EUV光刻機，更是高達4億多美元一臺。
關鍵是它還不是你想買就能買的，美國不允許ASML賣給我們。
所以，我們想要突破5nm，還得另找其它辦法，比如使用DUV光刻機，經過多重曝光等，但這種辦法需要的時間久，別人一次曝光即可，我們可能需要三四次，時間成本無疑就高了很多，率良也會低了很多，最終總成本比采用EUV貴了好幾倍。
所以不管怎么樣，我們都需要研發出自己的EUV光刻機來，否則在先進芯片方面，就會一直受到限制。
一臺EUV光刻機，有很多大的系統，比如光源系統，物鏡系統，工作臺等等，再細分的話，一臺EUV光刻機，可以拆分成至少10萬多個零件。
比如物鏡系統方面，供應商是德的蔡司，雙方合作超過了三十年，物鏡系統又由照明系統、投影響光學系統組成，這兩部分重3-4噸，零件有3萬多個。
再比如光源系統，主要是Cymer等供應商，這里有3萬多個零件，也有2噸多重。
整個EUV光刻機中，ASML真正自研的部分，其實只占10-20%左右，另外的80%多，其實都是ASML整合全球供應鏈完成的。
那么問題就來了，如果我們研發EUV光刻機，這10萬多個零件，我們能夠自研的有多少？
之前有專家表示過，實際上我們能夠自研的，是遠遠達不到ASML的水平的，也就是說10-20%都達不到，也就是肯定是2萬個零件都自研不了的。
并且就算能夠自研出來的，在其性能、精度上，也未必能夠達到，畢竟我們與ASML本身就相差了很大的距離。
此外，更重要的是，EUV的供應鏈中，很多核心供應鏈，是與ASML是綁定關系，他們不會對外供貨，只會供應給ASML。
所以總的來講，要研發出EUV光刻機，我們能夠去全球整合的供應鏈并不多，很多都要靠自己，所以本身的研發難度，就是ASML的N倍，全部靠自己的情況之下，要研發出EUV，是非常困難的。
但是，我們沒有退路，再難也得咬牙研發，就像某位大佬說的，難道它比原子彈還難，EUV也是人靠的，所以我們遲早會研發出來的。
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